UV紫外線（xiàn）與（yǔ）光刻機的關係：光刻機為什麽要用到紫外線

光刻機是（shì）目前（qián）半（bàn）導（dǎo）體芯片行業（yè）的核心設備，其技術含量、價值含量極高。光刻（kè）機設備涉及到係統集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控製等多（duō）項先進技術是半導體行業中技術含量最高的設備。

目前，世界上最先進的（de）光刻機是荷蘭ASML的（de）EUV光（guāng）刻機（jī）。

有些（xiē）朋友（yǒu）會問，UV紫外線與光刻機到底是什麽關係，在芯片製造（zào）中為何要要用到紫（zǐ）外（wài）線（xiàn）？下麵由紫外（wài）線手電筒製造廠家（jiā）TANK007為你介紹。

1、半導體芯片光刻工藝原理

光刻的原（yuán）理是在已經切割好的晶圓（通常是多晶矽）上覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫（zǐ）外光、深紫外光、極紫外（wài）光）透過掩模照射在晶圓（yuán）表麵，被紫外線照（zhào）射到的光刻（kè）膠會（huì）發生反應。

此後用（yòng）特定溶劑（jì）洗去被（bèi）照射/未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從（cóng）掩（yǎn）模到晶片的轉移。

簡單來說，就用紫外線把多層電路圖雕刻在晶圓上（shàng），而在這過程中就必然要用到光刻機。目前滿足先（xiān）進製程的7nm/5nm的光刻機采用EUV光（guāng）刻工藝（yì），而隻有ASML製造的光刻機才（cái）可滿足。

2、UV紫外（wài）線與光（guāng）刻機

前麵我們提到（dào），紫外線（xiàn）負責把線路圖雕刻到晶圓表麵，而紫外線光源是由激光器負責產生（shēng），紫外線光源對芯片製（zhì）程工藝具有決（jué）定性影（yǐng）響。

伴隨半導體工業節點的不斷提升，光刻機（jī）使用的紫外線波長從436nm、365nm的近紫（zǐ）外(NUV)激光提高（gāo）到246nm、193nm(DUV)激光，DUV光刻機是目前大量應用的光刻機，波長是193nm，光源是ArF（氟化（huà）氬）準分（fèn）子激光（guāng）器。

從7nm開始（shǐ）Intel、三星和台積電（diàn）等晶圓代工企業開始引入EUV光刻技術，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機。

你可以這麽理解，全球最大的晶圓（yuán）代工廠台積電也隻有從ASML購買EUV光刻機才能在7nm/5nm製程工藝上完成晶圓的雕刻。

要想知道EUV到底是什麽東西，簡單來說（shuō）EUV是UV紫外線中波段處於（10nm~100nm）的短波（bō）紫外線

本質上，EUV極紫外光跟（gēn）UV紫外線和光刻機的關係是一（yī）致的。從7nm開始Intel、三星和（hé）台積電等晶圓代工企業（yè）開始引入EUV（波長10 ~ 15 nm，通常為13.5nm）光刻技術，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻（kè）機（jī）就是EUV光刻機。

你可以這麽理解，如果沒有EUV光刻（kè）機晶圓代工廠就無法生產先進製程的芯片（piàn）如7nm或5nm芯片（piàn）。

TANK007探客手電集紫（zǐ）外線（xiàn）手電筒研發、生產、銷售為一（yī）體的（de）手電筒廠家（jiā），專（zhuān）注（zhù）於紫外線手（shǒu）電筒領域20餘年，是紫外線手電筒行業領軍企業，並成為多（duō）家世界500強（qiáng）企業長（zhǎng）期合作夥伴（bàn），值得（dé）信賴！

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